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半导体清洗用超纯水设备—100T/H—EL10Q

2013-09-16 16:15

  一、半导体清洗用超纯水设备概述

  随着科技的进步,电子工业也在迅速的发展,在芯片半导体的生产过程中,对于半导体清洗用水的水质标准也越来越高。超纯水设备一般应用于市政用水,处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。

  二、半导体清洗用超纯水设备优点

  1、工艺的设计细微周到,元件的材质、性能、设计的流量、流速、压力等均符合国家的标准规范及国外材料商的规定要求。

  2、制水过程高度自动化,自动进水,自动制水,纯水箱满水自动停机,用水后自动恢复,可完全实现无人值守的运行。

  3、可选用可编程控制(PLC),计算机触摸屏控制,远程数据采集及监控等先进技术,使产品更具现代化特色。

  三、半导体清洗用超纯水设备工艺流程

  EDI工艺详细描述:

  来自城市水源的水中含有钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐、二氧化硅等溶解盐。这些盐由带负电的离子(anion)和带正电的离子(cation)组成。98%以上的离子都可以通过反渗透(RO)处理得以去除。城市的水源还含有有机物、溶解气体(如:O2、CO2)、微量金属和其它微电离的无机化合物,这些杂质在工业应用过程当中必须去除(如硼和硅)。RO系统和其预处理也可以去除许多这些杂质。

  RO反渗透纯净水设备产水的电导率理想范围一般在4-20µS/cm,而根据应用领域的不同,超纯水或去离子水的电阻率一般在2-18.2MΩ.cm之间。通常,EDI进水离子越少,其产品水质量越高。

  EDI工艺从水中去除不想要的离子,依靠在淡水室的树脂吸附离子,然后将它们迁移到浓水室中。

  离子交换反应在模块的淡水室中进行,在那里阴离子交换树脂释放出氢氧根离子(OH-)而从溶解盐(如氯化物、Cl-)中交换阴离子。同样,阳离子交换树脂释放出氢离子(H+)而从溶解盐中(如钠、Na+)交换阳离子。

  从水流中去除离子的吸附步骤,在模块中的停留是有限的(近似10~15秒)。当被吸附时,离子仅仅被外在的直流电场驱动迁移。

  一个直流(DC)电场通过放置在组件一端的阳极(+)和阴极(-)实现。电压驱动这些被吸收的离子沿着树脂球的表面移动,然后穿过离子选择性膜进入浓水室。直流电场也裂解水分子形成氢氧根离子和氢离子:

  H2O=OH-+H+

  离子交换膜由垂直线表示,这些垂直线根据离子穿透性的不同标注成不同的几项。因为这些离子选择性膜不允许水穿过,所以他们对水流来说是个屏障。

  带负电的阴离子(如OH-、Cl-)被吸引到阳极(+),并且被阴极排斥。这些离子穿过阴离子选择性膜,进入相邻的浓水室,而不会穿过相邻的阳离子选择性膜,并滞留在浓水室,并随浓水流出浓水室。在淡水室中带正电的阳离子(如H+、Na+)被吸引到阴极(-),并且被阳极排斥。这些离子穿过阳离子选择性膜进入临近的浓水室,他们在那里被临近的阴离子选择性膜阻挡,并随浓水流出浓水室。

  在浓水室中,仍然维持电中性。从两个方向输送过来的离子彼此相互中和。从电源流过来的电流跟移动离子的数目成比例。水裂解离子(H+和OH-)和现存的离子都被迁移并且被加到所要求的电流之中。

  当水流流过两种不同类型的腔体时,淡水室中的离子就会完全被去除,同时被收集到邻近的浓水流之中,这就可以从模块中带走被去除了的离子。

  在淡水室和(或)浓水室中使用离子交换树脂是EDI的关键技术和专利。在淡水室中还会发生一个重要现象,在电势梯度高的特定区域,电化学“分解”能够使水产生大量的H+和OH-离子。这些区域中产生的H+和OH-离子在混合的离子交换树脂中可以使树脂和膜不断再生,并且不需要外加化学试剂。

  合格的反渗透纯净水设备对于EDI理想的性能表现和EDI系统无故障工作是一个基本要求(实际上对于任何基于离子交换树脂的去离子系统都是这样)。进水流中的污染物质对去离子组件会产生负面影响,要么增加维修频率,要么减少模块的使用寿命。因此,RO反渗透系统的品质和它的预处理是需要审定的。

  四、半导体清洗用超纯水设备工程客户案例 

合作公司 应用行业/吨位
陕西神光新能源有限责任公司 化工行业100吨/H 超纯水设备
中国电子科技集团第四十七研究所 工业100T/H超纯水设备
沈阳肯彼克电源科技有限公司 电子电源20T/H超纯水处理设备
黑龙江奥宇石墨集团有限公司 生产行业专用15T/H超纯水处理设备
哈尔滨鼎昕电子科技有限公司 电子行业15L/H超纯水设备
沈阳铁路信号责任有限公司 工业用50T/H超纯水设备
深圳天马微电子股份有限公司  电子工业100T/H超纯水设备

  五、半导体清洗用超纯水设备水质标准

  关于超纯水设备的出水水质有很多标准,对于不同企业生产过程中所用到的纯水水质也有所不同。半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准,并且还要达到一些国外的水质标准等。而且还能达到美国ASTM标准和德国、日本等标准,并且水质稳定不会造成二次污染。

  半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

  六、半导体清洗用超纯水设备施工方案

  1) 合同签订后,10个工作日内设备到达现场,开始施工。需要预付款。

  2) 施工工期为7个工作日,设备全部完工不超过20个工作日。

  3) 需方准备情况:

  原水量供应要满足设备要求用水量。

  电源安排供方施工现场。

  设备安装所需排水位置。

  4) 供方负责项目工程:

  安装项目包括:全套设备的安装施工。

  设备调试:供方负责设备调试,达到设备安全稳定运行。

  培训:供方选派有丰富工作经验的技术人员为需方操作人员及技术人员培训。

  注:安装整套设备时供方会积极配合需方所要求的各项工作,需方应为供方提供施工中的便利。

  以上是半导体清洗超纯水设备的优点及工艺流程的详细分析,莱特莱德是集设计、生产、制造于一体的综合大型企业,厂家生产的超纯水设备能够长期而稳定的生产出符合质量要求的用水,我们还提供各种行业专用的水处理设备,凭借多年的努力和发展、设备齐全、安装和调试、优质的售后服务,竭诚为广大客户服务。

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